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申请号:CN202111319054.0
申请日:2021-11-09
代理机构:深圳市广诺专利代理事务所(普通合伙) 44611
代理人:董彩玉
公开号(公开):CN113927976A
公开日期(公开):2022-01-14
申请人(公开):佛山纬达光电材料股份有限公司
发明人(公开):廖剑能
IPC分类(公开):B32B33/00;B32B7/12;B32B27/30;B32B23/08;B32B17/06;B32B37/12;G02B5/30;B32B27/06
CPC发明(公开):B32B17/06;B32B7/12;B32B23/08;B32B27/306;B32B27/06;B32B33/00;B32B37/12;G02B5/305
发明名称(公开):一种可用于拍摄天空蓝的消光片结构及其方法
摘要(公开):本发明公开了一种可用于拍摄天空蓝的消光片结构及其方法,通过采用透过率为55%~70%之间,偏光度为70%~90%之间的偏光片,能够有效避免反光给拍摄带来的不利影响,摄影时可使摄影原画的对比鲜明,色彩饱和,使拍摄的天空更蓝、更漂亮、更亮眼;通过溶胶凝胶法在第一光学玻璃层表面和第二光学玻璃层表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层,该界面活性剂层的纳米柱之间间隔设置,可以减少相邻叠放的两个偏光片结构表面之间的接触面积,再配合界面活性剂的作用,进一步减少相邻叠放的两个偏光片结构之间粘片现象的发生,即使不能完全消除粘片现象,也能减小粘片的程度,使后期需要分开安装时省时省力,不会损坏偏光片结构。
权利要求
权利要求
1.一种可用于拍摄天空蓝的消光片结构,其特征在于,包括由上到下依次包括第一光学玻璃层、第一光学胶层、四分之一玻片、第二光学胶层、偏光片、第三光学胶层和第二光学玻璃层,所述偏光片的透过率为55%~70%之间,偏光度为70%~90%之间。
2.根据权利要求1所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构,其特征在于,所述偏光片包括由上到下依次设置的第一外保护膜层、第一压敏胶层、第一内保护膜层、偏振膜层、第二内保护膜层、第二压敏胶层和第二外保护膜层,所述第一外保护膜层与所述第二光学胶层粘接,所述第二外保护膜层与所述第三光学胶层粘接。
3.根据权利要求2所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构,其特征在于,所述第一内保护膜层和所述第二内保护膜层采用TAC薄膜保护层。
4.根据权利要求1所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构,其特征在于,所述第一光学胶层、第二光学胶层和第三光学胶层均采用PSA胶粘层。
5.根据权利要求2或3任一所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构,其特征在于,所述偏振膜层通过具有网状结构的高分子化合物聚乙烯醇薄膜作为基片,再浸染具有强烈二向色性的碘,经硼酸水溶液还原稳定后,再将其单向拉伸4~5倍制成。
6.根据权利要求1所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构,其特征在于,还包括分别在所述第一光学玻璃层上和第二光学玻璃层上设置一层界面活性剂层,所述界面活性剂层通过溶胶凝胶法形成一层纳米级柱状矩阵覆盖在所述第一光学玻璃层上和第二光学玻璃层上。
7.根据权利要求6所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构,其特征在于,所述界面活性剂层厚度为5-20μm。
8.根据权利要求6或7任一所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构,其特征在于,所述界面活性剂层包括硅源化合物、有机硅修饰剂、强碱物质,将硅源化合物加入水解介质中,搅拌均匀形成水解体系;在搅拌条件下,调节得到的水解体系的pH使硅源化合物发生水解,并在调节pH时加入有机硅修饰剂,搅拌得到表面改性纳米二氧化硅的分散液;向得到的分散液中加入强碱物质,形成反应体系;将得到的反应体系持续搅拌即得分散于溶液中的二氧化硅纳米表面活性剂;其中,硅源化合物的加入量以二氧化硅计,水解体系中含二氧化硅的浓度为0.1~4.0mol/L,二氧化硅、有机硅修饰剂及强碱物质的摩尔比为1:0.05~1:0.5~3。
9.一种如权利要求1至8任一所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
S1:在偏光片的两面分别粘接第二光学胶层和第三光学胶层;
S2:将第二光学玻璃层与所述第三光学胶层粘接;
S3:将四分之一玻片与所述第二光学胶层粘接;
S4:将第一光学胶层与所述四分之一玻片粘接;
S5:将第一光学玻璃层与所述第一光学胶层粘接;
S6:分别在第一光学玻璃层表面和第二光学玻璃层表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层。
10.根据权利要求9所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构的制备方法,其特征在于,所述S6中,通过溶胶凝胶法分别在第一光学玻璃层表面和第二光学玻璃层表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层。
说明书
摘要图片

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