权利要求
1.一种薄型偏光膜的制备方法，其特征在于，制备步骤如下：
1）线偏光片的制备，在基材膜上涂上起偏化学物质并实施拉力，加热固化成膜，然后浸入二色性色素，干燥，形成线性偏光膜；
2）液晶补偿膜的制备，在基材膜上涂上液晶化学物质，加热固化成膜；
3）贴合，将液晶补偿膜按照需要的角度进行裁切，将线偏光片与液晶补偿膜的一侧通过胶水复合在一起，在液晶补偿膜的另一侧复合压敏胶、离型膜。
2.根据权利要求1所述的一种薄型偏光膜的制备方法，其特征在于，所述基材膜为TAC(三酷酸纤维素)或COP环烯烃聚合物或PMMA。
3.根据权利要求1所述的一种薄型偏光膜的制备方法，其特征在于，所述补偿膜厚度为2～8µm。
4.根据权利要求1所述的一种薄型偏光膜的制备方法，其特征在于，所述基材膜的厚度为20～25µm。
5.根据权利要求1所述的一种薄型偏光膜的制备方法，其特征在于，所述基材膜上线偏光层成膜厚度为0.5～2µm。
6.根据权利要求1所述的一种薄型偏光膜的制备方法，其特征在于，所述胶水的厚度为2～10µm。
7.根据权利要求1所述的一种薄型偏光膜的制备方法，其特征在于，所述压敏胶的厚度为10～15µm。
8.一种薄型偏光膜，其特征在于，利用如权利要求1-7中任意一项所述的一种薄型偏光膜的制备方法制得。
9.根据权利要求8所述的一种薄型偏光膜，其特征在于，所述薄型偏光膜包括从上到下依次设置的保护层、偏光素子基材膜层、偏光素子层、液晶补偿膜层、压敏胶层和离型膜层。
10.如权利要求8-9中任意一项所述的薄型偏光膜在OLED上的应用。